报告题目：纳米精测（Metrology）在先进制造中的使能作用
报告人：苏全民 中国科学院沈阳自动化研究所研究员
时间：2023年10月12日（周四），下午2点30分
地点：光电大楼1026会议室
联系人：韩森教授
报告内容：
先进制造（如半导体，OLED显示和精密光学制造等）的控制精度已经进入了纳米，甚至是皮米的尺度。这一尺度下的几何形貌，物理及化学性能的测量逐渐成为了研发，产线过程优化和质量控制的核心技术。本次报告将聚焦于基于探针技术的纳米测量，并进一步讨论扫描探针技术（Scanning Probe Microscopy, SPM）在产线质量管控，良率提升和配方优化过程中的作用。报告还将针对大型光学器件制造中面临的挑战深入讨论跨尺度测量的重要性，并提出基于纳米探针技术的跨尺度测量方法，实现跨越9个量级动态范围的3维形貌精测。最后我们将总结探针技术在纳米尺度物理性能和化学分析等领域取得的进展。
报告人简介：
苏全民，中国科学院沈阳自动化研究所研究员，国家特聘专家，全国显微镜协会理事。1988年中国科学院合肥固体物理研究所博士，同年赴德国KFA研究中心进行博士后研究，随后分别在马里兰大学，Raytheon System任职，并于1999年加入Veeco/Bruker布鲁克，专注原子力显微镜(AFM)产品研发,于2017年全职回国。回国前担任美国布鲁克公司高级技术总监，领导原子力显微镜技术和系统的研发。苏全民是55 项美国授权专利，包括峰值力轻敲模式的发明人，领导开发的产品曾获 R&D 100（2002）和 Microscopy Today（2012）年度最佳产品奖，并在纳米研究，磁储存和半导体产业中得到广泛应用。苏全民发表了80多篇论文；并组织了“Seeing at the Nanoscale”系列国际会议，担任各种国际会议的分会主席，如MRS ， M&M， AVS等